BF1200高溫箱式爐設計用于電子元件、玻璃、陶瓷粉料的預燒、燒結，亦可作為其它陶瓷產品、稀土元件、磁性材料等的燒成之用。保溫材料采用高純輕質氧化鋁纖維，30段PID程序溫控儀控制；具有升降溫速率調整范圍大，生產效率高，節能等特點，設備外型美觀，非常適合于科研單位小批量生產或產品工藝摸索。

VMF-I小型真空熔煉爐為臥式前開門桌面式結構設計，結構新穎外形美觀。主要供大專院校、科研單位及生產企業在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進行合金鋼的真空精煉。

VHF1700-I真空氫氣爐專針對于材料在氫氣環境或惰性氣體環境進行燒結或是退火，其最高溫度可高達1700℃。采用氧化鋁纖維作為爐膛材料（爐膛尺寸為200 x 200 x 200 mm），以鉬絲作為加熱元件，爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管，以保證儀器工作時的密封性能，可以在惰性氣體或還原性氣體環境下燒結材料（如熒光材料，鈦合金等）。

BAF1700真空氣氛爐這款氣氛箱式爐以1800型硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用1800型氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊、并通有水冷系統

BAF1600真空氣氛爐這款氣氛箱式爐以1800型硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用1800型氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊、并通有水冷系統

BAF1400真空氣氛爐這款氣氛箱式爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統

這款氣氛箱式爐以瑞典康泰爾電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，30分鐘內能達到1000度，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統$nBAF1200真空氣氛爐

TF1700真空管式爐主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、CVD實驗、物質成分測量等場合。